184半導體的困境(3 / 3)

而且歐美也不會眼睜睜地看著你實現技術突破的,他們也會集中力量展開一場聲勢浩大的半導體領域的科研競賽…絕對不會讓你在這個領域實現超越的。

眾所周知,攻擂比守擂要難得多,也更加消耗人力物力,那麼他們真的做好準備打這一仗了嗎?答案是否定的,最起碼以他的地位沒有得到什麼消息。

再加上他們的人才更多,更牛,科研資金更加充沛…所以難度非常高。而且很多的技術不是你實現了攻關就可以使用的,還涉及到專利的問題。

大家雖然沒辦法去把蘑菇蛋申請一個專利,沒辦法給航母和飛機申請一個專利,但是光刻機的專利確實可以申請,而且專利費還很貴!

這東西跟航母、戰鬥機不一樣。航母,戰鬥機你就算仿造別人的也沒法起訴侵犯專利。光刻機你要是用同樣的原理,光是賠專利侵權就要傾家蕩產。

至於ASML現階段的技術,就算華國造出一模一樣的東西來,還有專利的麻煩在那裏,要規避這一堆專利而商業化幾乎做不到,那一整條半導體聯盟的市值有幾萬億美元,他們所組成的專利護城河幾乎是亞馬遜河那種級別的。

所以,如果從大的籠統的方麵來說,華國用新的芯片製造技術超越台積電還是可能的,但是道路卻是極為曲折的。

大家可能對所謂芯片製造不太了解。這麼說吧,如果歐洲一夜之間蒸發了,老美想要重新造出性能相似的光刻機來,至少需要五年!

從這裏看,那一幫子老牌貴族還是有點東西的,不像我們這裏的正黃旗,隻剩下了幾尺又臭又爛的裹腳布,純粹惡心人。

所以華國要造新型EUV光刻機並不是華國單挑老美,而是華國單挑外國!別的不說,高性能的濾光片,對極端紫外線高反射率的鍍膜,耐用的商業激光器……沒有一個是華國自己能夠造出來的!更確切的說,不是華國造不出來,而是老美有很多也造不出來!

鍍膜、濾光片、半反半投鏡……這些技術低性能也就罷了,高性能的產品都是一年一年試出來的,歐洲起步早,試驗的多就是世界最強!

華國起步晚,短時間內就是造不出來。因為,沒有這些基礎器件,談造EUV光刻機就是天方夜譚!

所以造光刻機跟造航母不一樣,航母並沒有在全球的產業鏈裏麵。而光刻機是全球產業鏈整合出來的產品。針對華國的技術封鎖如果沒有鬆動,需要重複做的事情太多,絕非十年二十年,靠華國單打獨鬥能成的。

而在十幾年二十幾年之後,你攻克的產品也已經過時了,人家又有更好的產品了,你依然還是落後…

這大概就是馬太效應了,強者恒強!

假如大家還覺得市場、錢、政策能夠***式地造出光刻機,那就是絕對錯誤的認識,國家那麼多專家組成的智囊團,絕對不是擺設,如果有利的事情,國家絕對不會去做,如果沒有,那大概就是得不償失,利益不夠吸引人,付出與收獲不成正比。

當然EUV作為新一代的技術能夠實現7nm、5nm的光刻,雖然更加先進,但是如果真的台積電被迫不能給華國代工,我們依然可以使用老一點的技術。使用老一點的技術也足以保證國內正常的需要。這也是為什麼國家在這個領域沒有那麼大的動力和決心的一個原因。

至於手機和電腦等等商用的芯片,既然自己製造比買的要貴得多,而且性能還比不上人家,那麼就隻能先緊著軍用和科研使用了…這也是和世界接軌需要承受的代價之一吧。

總之呢,EUV光刻機可以看作是美元霸權的衍生品。美元霸權還在,華國就無法在這一領域取得重大突破。當且僅當EUV光刻機所需的基礎配件能夠自由進口到華國的時候,華國才有可能在這個領域有突破。

最後,我再強調一個概念!可以商用化的產品跟實驗室裏能夠實現之間差了十萬八千裏!實驗室裏實現的意思是不考慮成本,不考慮穩定性,能夠有那麼一次或者兩次做成。

商用產品的概念是:穩定、高效、可控、能賺錢!

就EUV光刻機來說,華國做得最好的大概是長春光機所,也就是搭建了一套實驗室的EUV光源設備,而且從技術的實現來看,他們選擇了另外一條技術路線,EUV輸出的可控性必然不足,商業化依然有巨大瓶頸。

總之呢,如果技術不革新,這一塊兒華國想要後來者居上幾乎做不到。至於三星和台積電,它們是使用EUV光刻機的廠商,如果大陸都沒有足夠的EUV光刻機可用,談什麼收回國內市場,超過他們呢?

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