這件事絕對可以載入人類電子產業的發展史，可以說林本堅博士以一己之力直接擊沉了東洋電子產業都不為過，要知道尼康研發157nm的光源絕不是一個光源的問題，其配套的鏡頭、光刻膠、化學製劑、車間電路等等幾乎都是全新的，差不多等於把整個晶圓生產線或者電子產業基礎全都換了一遍。
得益於東洋強大的電子配套產業實力，圍繞著157nm光源，東洋係電子產業鏈參與進去了無數的大小公司，結果都被一起打折了脊梁，在梁遠偷渡之前，東洋廣場協議之後，東洋經濟之所以失落長達二十年之久，林本堅博士絕對功不可沒。
除了憋屈死掉的157光源之外，13.5nm euv llc也是梁遠偷渡之前人類技術上限中最有可能投入到大規模商業應用中的光源，這個陣營包括英特爾、amd、摩托羅拉、美國能源部、asml、英飛淩、micron等。
1nm接近式 x 光：這個陣營包括aset、mitsubishi，、nec、toshiba，、ntt、ibm、摩托羅拉，這也是一個被林本堅博士擊沉的陣營，由於實驗室向來比產業界前沿的緣故，這個陣營起始於八十年末期，采用接近式曝光方式生產，原計劃可以作為157光源之後的後補技術登場，到了新世紀雖然沒有尼康那般倒黴剛好產品成熟，不過美日兩國也各自在這個方向上投入了數十億美元的巨資，還未問世就已經涼涼也不知道是幸還是不幸。
0.004nm ebdw 或 epl:朗訊～貝爾實驗室、ibm、佳能、尼康，asml被邀請加入後又率先退出，這個陣營的學名叫做電子束直寫技術，是所有光刻技術陣營中看起來最吊也最浪漫的那個，同樣也是光刻技術的物理極限，更是方偉林的主要來意。
尼康在被asml擊敗之後，曾押寶電子束直寫技術拚死一搏，可惜這玩意的研發難度堪稱電子行業的可控核聚變，直到梁遠偷渡那一刻也沒聽到入坑十年的尼康搞出什麼大新聞。
一般來說，科技的前沿以大學為主多從事基礎科技研發，基礎科技往往領先產業應用十幾年甚至上百年的時間，比如愛因斯坦的質能方程和相對論，產業的前沿則是以大學定向實驗室和各類企業研究所為主，實驗室技術基本就是未來的工業界主流技術，往往領先工業界現有技術五至十年，比如諾基亞實驗室在2000年曾經在實驗室中搞出了和蘋果手機類似的個人電子終端，可惜被諾基亞高管槍斃掉了。
同樣，在九十年代初，從事電子產業研發的各大公司前沿實驗室，已經發覺193nm波長之後，光源的發展忽然陷入了極大的困境，現有的材料完全不支持更短波長的光源有大批量應用的可能，繼續縮短波長隻能寄托於新材料的發現或者死磕收益率不高的153nm波長的光源，更新現有電子產業的大部分設備。
由於芯片產業屬於高技術行業的緣故，前沿和生產一線的聯係十分緊密，實驗室的研發困境很快就傳導到了產業界，結果雖然193nm的光源還未普及，但未來的陣營已經隱隱有了跡象。
港基集電作為共和國唯一一家能摸到產業前沿尾巴的微電子集團，內部對未來的技術路線自然也是爭執不斷，有站隊193nm決定隻看眼前的，有站隊153nm的，相比193nm提升25%也是提升對不對，相比極紫外光反射式euv光刻，153nm設備的研發難度真是縮小了一個數量級，看起來是個彎道超車的好方案。
還有一部分膽子不小性情激進的研發人員直接站隊euv，而最激進的就是看好電子束直寫技術是未來突破193nm光源的最佳選擇。
未來的互聯網時代有句流傳很廣的大實話，隻有吊絲才做選擇題，土豪從來都是全要，港基集電就是全球電子產業中的吊絲，哪有精力在四個陣營全部投入研發經費，能堅守住一個陣營不被落下太遠就已經謝天謝地了。
經費有限，個人又都認為麵對若隱若現的193nm門檻，自己的方向才是正確的，在梁遠不幹預的情況下港基集電內部已經吵成了一團，而電子束直寫方案是第一個被港基集電高層槍斃掉的方案。
電子束直寫技術由於電子束的特性緣故，在精度上可以領先曝光技術四、五個世代，也就是說在晶圓生產線主流技術為1.0微米的時代，電子束直寫技術可以把製程線寬直接推進到0.13微米。
看起來這麼牛x的技術為啥被港基集電高管第一時間斃掉了？
一般來說，九十年代初期，主流技術的光刻機每小時加工的晶圓數量大約150至200片之間，而電子束直寫技術加工晶圓的數量大約為每小時三至五片，最坑爹的是隨著未來芯片的複雜程度快速提高，港基集電預估電子束直寫技術的加工能力還會恐怖從每小時三至五片晶圓下降為每小時加工三至五枚芯片的程度。