光刻機的原理說起來並不難，在加工芯片的過程中，光刻機通過一係列的光源能量、形狀控製手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖。
一般的光刻工藝要經曆矽片表麵清洗烘幹、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。經過一次光刻的芯片可以繼續塗膠、曝光。
越複雜的芯片，線路圖的層數越多，也需要更精密的曝光控製過程。
測量台、曝光台：是承載矽片的工作台。
激光器：也就是光源，光刻機核心設備之一。
光束矯正器：矯正光束入射方向，讓激光束盡量平行。
能量控製器：控製最終照射到矽片上的能量，曝光不足或過足都會嚴重影響成像質量。
光束形狀設置：設置光束為圓型、環型等不同形狀，不同的光束狀態有不同的光學特性。
遮光器：在不需要曝光的時候，阻止光束照射到矽片。
能量探測器：檢測光束最終入射能量是否符合曝光要求，並反饋給能量控製器進行調整。
掩模版：一塊在內部刻著線路設計圖的玻璃板，貴的要數十萬美元。
掩膜台：承載掩模版運動的設備，運動控製精度是nm級的。
物鏡：物鏡用來補償光學誤差，並將線路圖等比例縮小。
矽片：用矽晶製成的圓片。矽片有多種尺寸，尺寸越大，產率越高。題外話，由於矽片是圓的，所以需要在矽片上剪一個缺口來確認矽片的坐標係，根據缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。
內部封閉框架、減振器：將工作台與外部環境隔離，保持水平，減少外界振動幹擾，並維持穩定的溫度、壓力。
這些需求其實華夏國內都可以做出來，但華夏做不出高端光刻機需要的精密元件，原材料的起點上華夏就輸了。
精密才是光刻機真正的難點所在，許多精密元件不是你想仿製就能仿製得出來的，那往往需要一整條工業鏈條的支撐，需要高端的原材料打底。
退一萬步說，哪怕你能仿製出來，如果跳不出其中的專利壁壘，用了別人的專利就得付費，私自用別人的馨香，別人如果不授權給你，還能告得你傾家蕩產。
所以最後還是得給人卡脖子。
蘇方寧這次沒有抬杠，而是很認真的思考著這個可能，她平時可以嘲諷華漢星，罵華漢星花心蘿卜，罵他朝三暮四，有時候是真罵，有時候那隻是情人間的一種玩笑式的交流方式。
但在這種事關國家技術命運的大事上，她並沒有嘲笑這個男人，讀取了這個男人的部分記憶後她明白這個男人的焦慮和心中的狂熱。
出生於七十年代未八十年代初的華漢星，成長的記憶正是眼看華夏被西方諸國欺負卻無能為力的深刻記憶。
萬安灘對峙華夏為了地區平穩、華夏平穩選擇的退卻。
大使館被炸，顧全大局的忍氣吞聲。
撞機事件的烈士犧牲的悲痛。
外國人的指手畫腳。
那一聲聲無力的嚴正抗議。