“隻是，光刻機技術可是核心，阿斯麥雖然不錯但眼下已經被米國把控，再過幾年應該就能生產出高端光刻機了，拿到他們的技術顯然是不可能了，剩下的企業裏，還能做出光刻機的……”
自言自語之時，楚天耀的目光忽然看到了自己桌上的一本雜誌。
那是一本宣傳相機的雜誌，封麵上便是來自島國尼康的相機。
“對了，我怎麼把他給忘了。”
楚天耀眼前一亮，這才想起自己差點忘記了一件極其重要的事。
“仔細算算時間，眼下正是157nm光源幹刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭的開始，而尼康公司也正是因為押錯了寶，所以才跌落神壇。”
楚天耀神色有些激動，正是因為他重生而來的記憶，讓他又一次敏銳的察覺到了一次巨大的機緣。
說起這157nm光源幹刻法與193nm光源濕刻法，其實隻是光刻機兩種不同技術。
放眼九十年代，光刻機的光源波長還被卡死在193NM，成為了全產業的麵前的一道難關。
隻有將光源波長做的越短，芯片的精度才會越高。
而率先研發出高精度芯片的企業，注定會領跑整個行業，將其他企業牢牢地摔在身後。
而針對這項技術，市麵上出現了兩種方法。
那就是157nm光源幹刻法與193nm光源濕刻法。
尼康等公司主張在前代的技術基礎上，采用157NM的F2激光，走穩健道路。
而新生的EUVLLC聯盟，則押注於更激進的極紫外技術，用僅有十幾納米的極紫外光，刻十納米以下的芯片製程。
但不管是這兩種技術中的哪一種，技術要求都極其不易。
然而在這個時候，台積電一個叫做林本間的鬼才工程師出現了。
降低光的波長，光源出發是根本方法，高中學生都知道，水會影響光的折射率。
在透鏡和矽片之間加一層水，原有的193nm激光經過折射，不就直接越過了157nm的天塹，降低到132nm了！
林本間拿著這項沉浸式光刻方案，興奮的跑去了米國、德國以及島國，遊說各家半導體巨頭。
然而他的方案最終並沒有得到認可，甚至還有不少人覺得這家夥就是來搞事的，甚至不止一次警告台積電。
畢竟這隻是理想情況，在精密的機器中加水構建浸潤環境，既要考慮實際性能，又要操心汙染。如果為了這一條短期替代方案，耽誤了光源研究，吃力不討好隻是其次，被對手反超可就不好看了。
所以，作為大廠的尼康，選擇了在157nm上一條道走到黑，進行光刻機的技術突破。
而在這個時候，也正是阿斯麥公司登場的時候。
一個位於丹麥，隻有幾十人團隊的小角色。
誰都沒有想到，阿斯麥竟然和林本間一拍即合，二者賭了一波大的，竟然真的在幾年後研發出了第一台樣機。
也正是因為先人一步，他們成功拿下了IBM和台積電等大客戶的訂單，一躍成為了光刻機大廠。
然而，尼康雖然靠著技術突破，也研發出了幹式微影157nm技術的成品，但畢竟被阿斯麥搶了風頭，更何況波長還略落後於對手，等到一年後又完成了對浸潤式技術的追趕，客戶卻已經不承認“老情人”，畢竟光刻機又不是小朋友玩具，更替要錢，學習更要成本。
至此，尼康在光刻機舞台上，正式黯然離場。
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