“武書記，我記住了。”
“小林，你再看看光刻機的材料。”武定國看向林致遠的眼神更慈祥了。
林致遠拿起那份光刻機的材料，一看，大吃一驚。
原來我們國家很早以前就開始光刻機的研發了，而且技術水平還不低。
這超出了林致遠前世的認知。
1965年神州科學院研製出65型接觸式光刻機。
1970年，神州科學院開始研製計算機輔助光刻掩模工藝。
1972年，江漢無線電元件三廠編寫《光刻掩模版的製造》。
1977年，我國最早的光刻機-GK-3型半自動光刻機誕生，這是一台接觸式光刻機。
1978年，1445所在GK-3的基礎上開發了GK-4，但還是沒有擺脫接觸式光刻機。
1980年，青華大學研製第四代分步式投影光刻機獲得成功，光刻精度達到3微米，接近國際主流水平。
1981年，神州科學院半導體所研製成功JK-1型半自動接近式光刻機。
1982年，科學院109廠研製出了KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低，最保守估計跟當時最先進的canon相比最多也就不到4年。
1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，通過電子部技術鑒定，認為達到花旗國4800DSW的水平。這應當是神州第一台分步投影式光刻機，神州在分步光刻機上與國外的差距不超過7年。
隻可惜進入九十年代後，我國光刻機光源長時間被卡在193納米無法進步，這個技術非常關鍵。而且在八十年代，我國和花旗國的關係得到改善，很多過去對我們限製的高科技產品，現在都可以賣給我們了，國外的光刻機產品，性價比遠高於自我研發，我國光刻技術的研發和產業化實質上放棄了自主攻關。
“小林，你關注稀土我能理解，但是光刻機真的有這麼重要嗎？”
現在是1998年，武定國提出這個問題並不奇怪。因為在這個時代，高新科技產業還沒到集中爆發的時候，各行各業對芯片的要求不是太多，再加上我們還可以從國外進口，很大程度彌補了這個缺陷。
但林致遠是知道前世後期國家因為芯片被卡脖子的嚴重程度的。發達國家對我國的芯片產業全麵封鎖，對我國的企業進行限製和製裁。我們造不出高規格的芯片，全麵受限，隻能花費高昂的外彙去國外購買，每年我國用於芯片的錢高達2.4萬億。
如果神州自己能造芯片，就可以避免這種情況的發生。
“武書記……”林致遠深吸一口氣，“芯片是科技時代的重要生產力，芯片就像是第一次工業革命中的蒸汽機、第二次工業革命中的內燃機，其決定著一個時代生產力的強弱，未來，無論是人們常用的手機、電腦及數碼產品，還是企業應用的數據中心、高性能計算、工業機器人，都離不開芯片的支撐。芯片要被廣泛應用到航天、裝備、高精尖武器，黨政辦公領域，還有交通、電力、金融、電信、能源、醫療等國家戰略行業，使用國產芯片可以更好的保障國家安全，而光刻機是半導體工業中至關重要的設備……”
林致遠難得的激動了。