第1474章加一層水(1 / 2)

第1474章加一層水

於是,林致遠,黃秘書再加上韓所長夫妻,還有司機,五個人就在附近找了家飯店,點了幾個菜。

席間,韓所長繼續講他的光刻機技術,當他講到目前世界上步進掃描光刻機采取的技術路線都是幹式法,通過用更高級的曝光光源,來支撐技術進步到下一代。為了追求更高的分辨率,光源波長從最初的365nm,到248nm,再到193nm,但再往下走時,這條技術路徑出現了困難。大部分企業選擇了在原有技術路徑上改進,此時的兩大光刻機巨頭尼康、佳能,都選擇進一步研發157nm波長的光源。

韓所長說到這裏裏,林致遠突然深吸了一口氣,做出了一副不解的神態,“韓所長,我是門外漢,但是我有個問題,當然,這個問題可能是非常幼稚的,您可別笑話我。”

韓所長手一擺,“林助理,科學就是要大膽假設,小心求證,沒有想象力,科學就沒辦法前行,你有什麼問題就直說,我怎麼會笑話你呢!”

林致遠小心翼翼的開口了,“韓所長,我們在初中物理課上都學過,水會影響光的折射率,如果在您剛才說的步進掃描光刻機的透鏡和矽片之間加一層水,就會降低光的波長,韓所長,你覺得這個方法可行嗎?”

“加一層水?”韓所長整個人似乎都傻掉了,他不停的重複這四個字。

韓所長已經完全陷入到一種極度亢奮的狀態中,他旁若無人在飯店裏踱起步來,越走越快,嘴裏還在不停的念叨著,“林助理,你知道摩爾定律嗎?”

不等林致遠回答,他便自己說了下去,“摩爾定律就是集成電路上可容納的元器件的數量每隔18至24個月就會增加一倍(相應的芯片製程也會不斷縮小)。而每一次製程前進,也會帶來一次芯片性能性能的飛躍。”

“可是全世界的半導體研發團隊都在157納米波長技術前停滯不前,摩爾定律開始被人懷疑,你剛才說的很有可能由此繼續將摩爾定律延續下去。這是一個偉大的猜想,不行,我等不急了,我要馬上回去做實驗。”韓所長轉身就往外走,可是一隻腳已經踏出飯店了,他又回過頭,尷尬的一笑,“一高興把什麼都忘了,咱們沒有實驗室,沒有相應的設備沒辦法做這個實驗。”

他低下頭繼續自言自語,“一定有辦法的,我必須要把這個天才的猜想變成事實。”

2002年,一位華裔林姓科學家發明了“浸潤式微影技術”,徹底改變了集成電路的生產。這項技術是在透鏡和矽片表麵的間隙中,用水代替空氣以提高分辨率。當全世界的半導體研發團隊都在專注於157納米波長技術時,林姓科學家創造性地以193納米波長的光,通過水作為介質,將其縮短至134納米,由此繼續將摩爾定律延續下去。

但理論歸理論,能不能從實驗室真正到工廠,還需要經驗豐富的設備商一起開發。林姓科學家去花旗國、東桑國、德意誌、風車國跑了一大圈,向光刻機廠商兜售浸沒式光刻的想法。但是,絕大部分大廠都不買賬。

不買賬的原因除了這項技術走得太“鬼才”,還有不少想法需要驗證之外,另一個原因就是改變的沉沒成本太高。當時主流的研發思路,都是在157nm的幹式光刻技術路徑上。諸多公司已經耗費了大量財力、人力、物力,如果用這種“加水”的想法,各個研究團隊就得全部重新開始,推翻原有的大部分設計。