那邊張如京沉默了一會兒，然後說到，“對的，曹總，我要說的就是這件事情，清大的唐川力教授團隊已經研發出一種穩定的極紫外光光源了，你想不想來一起看看？”
“哈？！”
曹陽愣了兩秒鍾，整個人開心得合不攏嘴，顯得異常的驚訝。
“真的假的？”
媽耶！
前世都沒有做到的事情，沒有想到這一世居然能做到了？！
可千萬別是什麼冒充騙錢的呀！
……
極紫外光光源這個東西，說起來是EUV開發的三大難題之一。
有人這樣形容光刻機：“這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表麵物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟件、圖像識別領域頂尖技術的產物。”
我們可以把光刻機看作一台高精度的底片曝光洗印機，它負責把“底片”，也就是設計好的芯片電路圖曝光到“相片紙”上。這個“底片”有一個專業名稱，叫做“掩膜”。而這裏的“相片紙”，就是製造芯片的基底材料矽晶圓；曝光完成後得到的最終“照片”，就是芯片。
光刻機的基本結構最關鍵的部件隻有三個：光源發射器、用來調整光路和聚焦的光學鏡頭，以及放置矽晶圓的曝光台。
正是因為光刻機的工作原理和基本結構並不複雜，所以，在芯片行業發展的早期，並沒有專門的光刻機生產商。
芯片公司隻需要到照相器材商店購買普通的相片洗印設備，然後自己加工改造一下就可以了。後來隨著需求的不斷提升，到現在智能手機的出現，對芯片提出了越來越高的要求。
經過這麼多年的發展，博米公司雖然擁有著世界最高水準的芯片設計能力，可仍然缺乏芯片製造技術。
或者說，這一切的源頭都卡在光刻機這裏。
這就要說到芯片行業著名的“摩爾定律”。摩爾定律是指，每隔兩年，同樣大小的一塊芯片上，晶體管數量會增加一倍。
換句話說，芯片的性能也增加一倍。但摩爾定律並不是客觀的自然規律，而是芯片行業在激烈競爭中形成的經驗規律：一旦芯片公司的研發速度落後於這個節奏，就將被無情淘汰。摩爾定律自從1965年提出後，統治了芯片行業長達半個世紀。
半個世紀以來，芯片上的晶體管數量一直在呈指數級增長。如果還把芯片比喻為“照片”的話，那麼，這個照片的像素是呈指數級增長的。相應地，用來曝光洗印“照片”的光刻機的精度，也必須越來越高，否則，你設計的“照片”再精美，印不出來也沒有用。
比如，未來博米的智能手機需要用到低於10nm級別的芯片，生產這樣的芯片，要用到的最先進的極紫外光刻機。
它的精度要達到什麼樣的程度呢？首先，如果把光想象成一把刻刀的話，那麼光波越短，這把刻刀就越鋒利。
1納米等於百萬分之一毫米，7納米芯片意味著，它的每個元器件之間，隻允許有幾納米的間隔距離，相當於一根頭發絲粗細的萬分之一。
要曝光這樣的芯片，必須采用一種特殊的光源，也就是極紫外光，它的波長隻有13.5納米，是可見光波長的幾十分之一。
但是，極紫外光源很難製造。
直到今年年初，阿斯麥才研製出了第一台極紫外光刻機。
不過這個進程已經比曹陽前世的要提前太多了。
光刻機的第二個技術難點，是用來調整光路和聚焦的光學鏡頭。高度精密的光學鏡頭是光刻機的核心部件之一，所以，排在阿斯麥之後的另外兩家光刻機生產商，尼康和佳能，都是生產光學鏡頭的佼佼者。㊣ωWW.メ伍2⓪メＳ.С○м҈
阿斯麥自己不生產鏡頭，它的鏡頭來自德國的光學大師卡爾蔡司。這種鏡頭有多精密呢？如果把鏡頭放大到一個地球那麼大，它上麵隻允許有一根頭發絲那樣的凸起。所以有人說，這可能是宇宙中最光滑的人造物體。
國內吃虧就吃虧在沒有完整的產業鏈，尤其是光學元件所需要的產業鏈上麵，攝像頭，照相機基本上都是來自於國外公司生產，很少能將光學元件打磨到那麼精細。
所以這一塊還有很長的路要走。
最後一個難點就在於【精準】
芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必須更換不同的掩膜，進行多次曝光。
芯片的每個元器件之間隻允許有幾納米的間隔。這就意味著，掩膜和矽晶圓每次對準的誤差，也必須控製在納米級別。
曝光完一個區域之後，放置矽晶圓的曝光台必須快速移動，接著曝光下一個區域。
要在快速移動中實現納米級的對準，這個難度就相當於，你要從眨眼之間，端著一盤菜從BJ天安門衝到上海外灘，恰好踩到預定的腳印上，菜還保持端平不能灑。
當然，這還有一係列外圍的技術難題，比如，室外空氣幹淨1萬倍的超潔淨廠房，防止機器抖動的磁懸浮裝置，以及配套的計算光刻軟件等等。
這就是為什麼光刻機被稱為“半導體工業皇冠上的明珠”的原因了。