1970年前後，非晶態磁性合金在製造工藝上取得了重大的突破，利用雙（單）輥法獲得了厚約20～50微米、長達數十米的非晶態薄帶。這是目前工業上大規模生產非晶帶材最常用的方法。實際上，利用高溫蒸發法、濺射法、電解沉積法或化學沉積法等也可得到非晶態薄膜或厚膜材料。
目前重點研究的非晶態磁性合金主要有三大類：
1.類金屬
類金屬非晶態磁性合金，它們主要由大約80％（原子百分比）的鐵、鈷、鎳和20％的硼、碳、矽、磷等類金屬元素所組成，室溫下具有很強的鐵磁性。應用形式多為薄帶，主要用做軟磁合金。
2.稀土
過渡族非晶態合金，它們主要由稀土元素和過渡族元素鐵、鈷等組成。室溫下，這類合金呈現亞鐵磁性。
應用時多為薄膜材料。這是磁光盤存儲器的主要介質材料。
3.過渡金屬
過渡金屬非晶態合金，這類二元非晶態合金的磁性往往不是很強，但通過添加第三種元素，如硼和碳等，可以擴展非晶態的形成範圍，並可產生強鐵磁性，有可能成為優異的軟磁材料。如摻入铌和鉭的CoZr 合金薄膜是重要的磁帶錄像機磁頭材料。